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HWN-P1500納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產。該系列產品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

HWN-P納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產。該系列產品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

納米光電子設備采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。

新型納米激光直寫系統(tǒng)采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。

新型納米激光直寫系統(tǒng)采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。

HWN-P1500-1500新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產。該系列產品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設計和制造。