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納米光電子設(shè)備

描述:納米光電子設(shè)備采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料,極大地擴(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家
  • 更新時間

    2025-04-17
  • 訪問量

    1209
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域化工
激光波長405nm特征尺寸100nm
激光功率120mW至300mW(可選)刻寫范圍50mm×50mm至100mm×100mm(可選)

蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司,公司由歸國和國內(nèi)的高層次人才組成,公司設(shè)有博士后流動站。

納米光電子設(shè)備采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料,極大地擴(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。

新一代激光直寫光刻設(shè)備特點

具有核心知識產(chǎn)權(quán)的國產(chǎn)激光直寫設(shè)備

具有超越衍射極限的加工能力

納米光電子設(shè)備可適用于多種受體材料

本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設(shè)備并提供各種微納結(jié)構(gòu)樣品的加工服務(wù)。

部分加工樣品如下圖

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